News
分析展2011 に出展
Tuesday, 16 August 2011 14:43
幕張メッセで開催される 分析展2011 (2011年9月7日~9日)に出展します。
ぜひ、弊社ブースをご覧ください。
事前登録お手続きはこちらから。
高精度サンプリング手法開発に関する開発協力契約締結に基本合意
Thursday, 14 July 2011 12:00
超微量分析性能を上げるには、センサー単体での分離性能に加えて、超高精度なサンプリング手法の確立が 非常に重要となっています。これに必要な技術開発を行う為に、 特殊な技術を有する専門技術企業との連携を進める事 に合意しました。
分析展2011に一部デモを予定していますので、弊社ブースにてぜひご覧ください。
半導体クリーンルーム環境化学物質監視アプリケーション開発開始
Tuesday, 10 May 2011 12:00
半導体クリーンルームは、微粒子を高い精度で除去する事に成功していますが、一方で、化学物質汚染はデバイス生産のイールドに影響が大きく、これらに関しては汚染度を把握して対策を打つ事が広く行われています。 従って、注目すべき化学物質の濃度を精確に把握する事 が求められています。
弊社は、1つのソリューションとして、OLP-CRMの製品紹介を分析展2011にて行う予定です。
Owlstone Nanotech社と事業協力・技術開発に関する契約を締結
Friday, 08 April 2011 12:00
Owlstone Nanotech社との事業協力・技術開発協力に関する包括的な提携を行う事に合意しました。
三菱UFJキャピタル株式会社・リックス株式会社・他からの資本参加実施
Thursday, 31 March 2011 12:00
ビジネス・メークに関する強化という視点と3~5 年以内に、IPOを実現するステップとして、専門の投資会社 からの協力を得る視点の2つから、三菱UFJキャピタル株式会社、リックス株式会社、個人投資家からの資金調達を実現しました。
これにより弊社の発行株式は7,985株(資本金:6,860万円、資本準備金:6,860万円)になりました。
プロセス監視市場向けアプリケーション開発を開始
Friday, 01 October 2010 12:00
分析展2010(JAIMA2010)の結果を得て、具体的な プロセス監視ソリューションを必要とする優良企業とのコン
タクトを開始しました。また、これらの個々ニーズを満足させる為のサンプリング技術とデータ解析技術に関する開発を
開始しました。
分析展 2010 ご来訪ありがとうございました
Monday, 13 September 2010 18:23
分析展2010 にたくさんのご来訪いただきありがとうございました。
今回は、創業10ヶ月という事もあり、展示出展社の公式締め切り後の飛び込みでの参加となりましたが、9月1日~3日の3日間で、所期の予想を超える330人の訪問がありました。
分析展 2010 に出展
Wednesday, 01 September 2010 09:45
幕張メッセで開催される 分析展2010 (2010年9月1日~3日)に出展します。
ぜひ、弊社ブースをご覧ください。
海外からの資金調達
Tuesday, 31 August 2010 12:00
英国・インド・日本国内より、販売チャネルと事業支援及び 研究開発・オペレーション費用を得る目的で、国内・海外の 事業会社と個人からの資金調達を実施しました。
2010年度東京都外国特許出願助成金の交付決定
Friday, 23 July 2010 12:00
弊社の特許「化学物質に関連した情報を取り扱うためのシステム」(PCT/JP2009/002872)が東京都中小企業振興公社の2010年度外国特許出願費用助成金の交付を受けることが決定しました。
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